NATM-2000型熒光磁粉探傷機

NATM-2000型熒光磁粉探傷機介紹

NATM-2000型熒光磁粉探傷機為機電一體式，主要用于濕式磁粉法檢查工件零件外表面、端面及其近表面任意方向的裂紋缺陷。熒光磁粉探傷機的周向磁化采用直接通電磁化方法，縱向磁化釆用雙線圈外加磁場方法，一次性復合磁化，全方位檢查工件表面及其近表面的各種裂紋、細微缺陷。交流磁化電流均帶斷電相位控制，既適合連續法，又可進行剩磁法探傷檢測。

熒光磁粉探傷機的控制電路釆用可編程序控制器系列產品（簡稱PLC）集中控制，具有手動控制和自動控制功能，手動控制時可進行設備的每個功能動作的單步手動操作控制。自動控制時設備自動執行PLC內部自動程序，實現工件夾緊、轉動、噴淋、復合磁化、轉動觀察、退磁、松開等一系列動作的半自動化。自動程序連續執行，循環往復。如需要立即結束，按動復位按鈕開關，自動程序立即結束，回到初試狀態。

主電路釆用可控硅無級調壓技術，設備的周、縱向磁化電流實現無級可調。設備釆用專用指針顯示表，精確度高，全部模塊化設計，安全可靠，操作維護及其方便。

工件檢測參數

1、工件規格：直徑：34mm 長度：783mm - 881mm

2、探傷范圍：外表面任意方向的缺陷

3、檢測速度：約20秒/I件（不含人工觀察的時間）

NATM-2000型熒光磁粉探傷機主要技術參數

1、周向磁化電流：AC：0-2000A有效值，指針顯示，帶斷電相位控制；

2、縱向磁化磁勢：AC：0-12000ATW效值，指針顯示，帶斷電相位控制；

3、電源：三相四線380V±10% 50Hz；

4、磁化方式：周向磁化、縱向磁化、復合磁化；

5、暫載率：325%,連續磁化時間最大3S；

6、磁化靈敏度：A型15/50試片清晰顯示；

7、控制方式：手動、自動；

8、工作節拍：約20 W1件(不含人工觀察的時間)；

9、電極間距：0-1000mm；

10、電極運動方式：氣動；

11、退磁方式：衰減式；

12、退磁效果：W3Gs；

13、紫外線強度：距光源380mm工件表面處強度^2000pW/cm2；

14、外形尺寸：

主機：1800 (L) X800 (W) X 1400 (H) mm；

含暗室尺寸：2100 (L) X 1650 (W) X2200 (H) mm；

15、氣源：0.4-0.7Mpa；

16、使用環境條件：溫度：-5°C?+45°C。

NATM-2000型熒光磁粉探傷機的構成

主要由電氣控制系統、電源系統、輔助操作系統、噴淋磁化系統、磁懸液循環系統、暗房熒光觀察系統、退磁系統等幾大部分組成。

電氣控制系統

設備的控制系統為設備的控制中心，集中安裝在設備的底部，設備所有操作控制均由控制系統完成。控制系統包括設備控制面板、輔助操作面板和控制電路配電板。控制面板位于設備的左前方，上面裝有設備電源開關、電源指示燈、周向磁化電流電流表、縱向磁化電流電流表、周向磁化電流調節電位器、縱向磁化電流調節電位器、手動/自動轉換開關、自動程序啟動開關、復位開關以及設備的各功能開關等。輔助操作面板安裝在設備的前面，上面裝有自動程序啟動開關、復位開關以及設備噴淋磁化系統的各功能開關等。控制電路配電板位于機械床身系統下面的前側，設備的主電路空氣開關、交流接觸器、同步電源信號變壓器、可編程控制器PLC、可控硅專用觸發線路板、可控硅以及各功能執行器件交流接觸器、中間繼電器、保護斷路器、電機保護斷路器等全部集中裝配在控制電路配電板上。

磁懸液噴灑及回收系統

磁懸液噴灑及回收系統由儲液箱、攪拌泵、抽液泵、集液斗、輸液管、咻噴頭、濾網等組成。儲液箱亦由非磁性材料不銹鋼制成，不產生磁懸液的吸附沉淀。釆用磁懸液的回流進行攪拌，這樣不損傷熒光磁粉。磁懸液儲液箱容量為50Lo

磁粉探傷儀.jpg